A máquina de revestimento a vácuo por feixe de elétrons consiste em colocar o material do filme em um cadinho de cobre resfriado-com água e usar diretamente o aquecimento por feixe de elétrons para fazer com que os átomos ou moléculas no material do filme vaporizem e escapem da superfície, depois entrem na superfície do substrato e se condensem em um filme.
A evaporação por feixe de elétrons tem maior eficiência térmica, maior densidade de corrente do feixe, velocidade de evaporação mais rápida e maior pureza do filme do que a evaporação por aquecimento por resistência geral.
Aplicações:
O equipamento de revestimento óptico a vácuo pode revestir uma variedade de sistemas de filme com um grande número de camadas, como passagem de onda-curta, passagem de onda-longa, filme anti-reflexo, filme reflexivo, filme de filtro, filme espectroscópico, filme passa-faixa, filme dielétrico, filme altamente-reflexivo, filme reflexivo colorido, etc.
Ele pode atingir o revestimento de filme de 0 a 50 camadas de filme e também pode atender aos requisitos de revestimento de produtos como vidro reflexivo automotivo, óculos, lentes ópticas, copos de luz fria, etc.
Ele pode revestir uma variedade de sistemas de filme com diferentes fontes de evaporação, canhões de elétrons, fontes de íons e medidores de espessura de filme, além de evaporar metais, óxidos, compostos e outros materiais de filme com alto ponto de-ponto de fusão-.









Características:
A máquina de revestimento a vácuo por feixe de elétrons é equipada com um medidor de espessura de filme de cristal de quartzo, e o sistema PLC e tela sensível ao toque são combinados para realizar o controle automático de todo o processo de trabalho, com excelente eficiência de trabalho e repetibilidade da qualidade do produto.
Adequado para uso por fabricantes no campo óptico e requisitos de produção industrial em grande-escala
Especificação:
| Máquina de revestimento óptico a vácuo | |||||||
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Modelo |
SF-800 |
SF-1200 |
SF-1400 |
SF-1600 |
SFW-1000 |
SFW-1200 |
SFW-1600 |
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Tamanho da câmara |
Φ800×1000MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1600×1800MM |
Φ1000×1100MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1600×1800MM |
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Unidade de vácuo |
Unidade de bomba de difusão KT500 |
Unidade de bomba de difusão KT630 |
Unidade de bomba de difusão dupla KT630 |
Unidade de bomba de difusão dupla KT630 |
Unidade de bomba de difusão KT500 |
Unidade de bomba de difusão KT630 |
Unidade de bomba de difusão dupla KT630 |
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Sistema de revestimento |
Fonte de evaporação de pistola de elétrons, fonte de alimentação dedicada de íon auxiliar de revestimento ou fonte de íons Hall |
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Sistema de inflação |
Controlador de pressão |
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Método de controle |
Manual ou totalmente automático |
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Sistema de monitoramento de espessura de filme |
Sistema de monitoramento de espessura de filme de cristal de quartzo |
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Taxa de bombeamento |
5×10-3Pa﹤15min |
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Vácuo final |
3,0X10-4Pa |
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Observação |
Os parâmetros do equipamento acima são apenas para referência e são projetados e personalizados de acordo com os requisitos reais do processo dos clientes. |
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