Princípio operacional:
A Sputtering de Magnetron é uma tecnologia de deposição de vapor físico amplamente usada. Sua vantagem central está em sua capacidade de depositar filmes finos uniformes, densos e altamente adesivos em alta velocidade a temperaturas relativamente baixas, e sua ampla gama de seleção de material alvo (metais, ligas, cerâmica, polímeros etc.).
Aplicações:
Semicondutores e microeletrônicos
Revestimento óptico
Exibição do painel plano
Revestimento decorativo
Revestimento super resistente ao desgaste para ferramentas e moldes
Características:
Alta taxa de deposição
Deposição de baixa temperatura
Boa qualidade do filme
Universalidade material
Baixa pressão do ar de trabalho
Boa capacidade de controle de processo
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