Princípio operacional:
O princípio principal do equipamento de deposição a vácuo é vaporizar ou ionizar a fonte do material em um ambiente de vácuo e, em seguida, permitir que os átomos gerados, moléculas ou íons depositem na superfície do substrato alvo para formar um ou mais filmes finos.
Aplicações:
Semicondutores e microeletrônicos: Fabricação de circuitos integrados: Esta é a área mais importante e sofisticada da tecnologia de deposição a vácuo. Usado para depositar camadas condutivas, camadas isolantes, camadas funcionais.
Tela plana do painel e OLED
Ferramentas e revestimentos resistentes a desgaste
Fotovoltaico solar
Revestimento decorativo
Características:
Ambiente a vácuo
Reduza a interferência da molécula de gás, evite contaminação e oxidação.
Revestimento de alta qualidade
Alta pureza, boa densidade, forte adesão, boa uniformidade e forte controlabilidade.
Ampla gama de aplicabilidade material
Uma grande variedade de materiais de revestimento e uma ampla gama de materiais de substrato.
Diversos processos de revestimento
Revestimento de evaporação a vácuo, revestimento de pulverização, revestimento de íons.
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